金属连续镀-昆山市禄之发电子-金属连续镀厂
无碱性亮铜在铜合金上一步完成预镀与加厚,镀层厚度可达10μm以上,金属连续镀报价,亮度如酸性亮铜镀层,金属连续镀厂,若进行发黑处理可达漆黑效果,已在1万升槽正常运行两年。能完全取代传统镀铜工艺和光亮镀铜工艺,金属连续镀厂商,适用于任何金属基材:纯铜丶铜合金丶铁丶不锈钢丶锌合金压铸件、铝丶铝合金工件等基材上,挂镀或滚镀均可。普通型以硫酸盐为主络合剂,型以不含硫的有机物为主络合剂。全光亮镀层厚度可达40μm以上,金属连续镀,镀层表面电阻~41μΩ·㎝,硬度~HV101.4,热冲击298K(25℃)合格,非常接近镀银的性能。








例如镀镍时,阴极为待镀零件,阳极为纯镍板,在阴阳极分别发生如下反应:阴极(镀件):Ni2++2e→Ni (主反应)2H++2e→H2↑ (副反应)阳极(镍板):Ni-2e→Ni2+ (主反应)4OH--4e→2H2O+O2 (副反应)不是所有的金属离子都能从水溶液中沉积出来,如果阴极上氢离子还原为氢的副反应占主要地位,则金属离子难以在阴极上析出.根据实验,金属离子自水溶液中电沉积的可能性,可从元素周期表中得到一定的规律。



其中电镀液成分视镀层不同而不同,但均含有提供金属离子的主盐,能络合主盐中金属离子形成络合物的络合剂,用于稳定溶液酸碱度的缓冲剂,阳极活化剂和特殊添加物(如光亮剂、晶粒细化剂、整平剂、润湿剂、应力消除剂和抑雾剂等)。电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下,经电极反应还原成金属原子,并在阴极上进行金属沉积的过程。



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