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真空镀膜镀层并非完全不导电,不导电是利用了分子在薄膜状态下的不连续性

金属或金属化合物都具有导电性,只是导电率不同。但是,当金属或金属化合物呈一种薄膜的状态时,其相应的物理特性会有所不同。

常规的镀膜材料中,如:银是银白效果和导电性能zui好的金属,但它厚度在5纳米以下时,它是不导电的;铝的银白效果和导电性比银稍微差一些,但它厚度在0.9纳米时,就已经具备导电性。










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在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

真空镀膜技术初现于20世纪30年代,高反射反光杯,四五十年代l开始出现工业应用,高反射反光杯厂家,工业化大规模生产开始于20世纪80年代,在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜是指在真空环境下,将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材料),属于物理气相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜,故也称真空金属化。




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