半导体污水分为三大类：含氟废水、有机废水和金属离子废水。

为了除去污水中COD、氨氮、总氮等有机污染物，一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。

　　金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法，常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。

　　对于含氟废水，主要是往污水中加入钙盐，钙盐可以跟水中氟离子形成CaF2，再加上混凝剂辅助就可以去除污水中的氟离子，这就是常说的化学沉降法。

　　因电子半导体行业的用水率高，所以为了降低用水成本、减少对环境的污染，污水回用对于电子半导体行业的经营者是极其重要的。

　　半导体污水除了除了以上方法以外，还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等，在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。

在A1级池的生化作用后，污水中仍然存在一定量的有机物和高氮氨。 为了进一步氧化和分解有机物质，同时碳化倾向于完成，硝化作用可以顺利进行。 水平生化池。   A1级池流出物流入O级池。  O-级生化池的处理由自养细菌（硝化细菌）完成。 它们使用由空气中的有机物或二氧化碳分解产生的无机碳源作为营养源，以及污水中的氨氮。 转换为NO2-N，NO3-N。  O级泳池水   如果发现地下综合污水处理设备的管道系统有泄漏或破1裂，应立即关闭。 应严格管理排放的污水，并对所有排水和调节水箱进行再处理。 应通知维护人员在开始时间修复管道泄漏。  。

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当曝气时间长或曝气量太大时，曝气池中将发生高硝化作用，使混合物中的硝1酸盐浓度更高。 此时，由于反硝化作用，沉淀池中可能产生大量的N 2或NH 3，一体化污水处理，污泥漂浮。  此外，曝气分布是否平衡和稳定也是影响处理效果和能耗的重要因素。 当曝气系统运行时，曝气的分布将因各种干扰而变化。 例如，如果局部曝气头被堵塞，气流将减少，同时流量将在其他地方增加。 相反，如果曝气头损坏，气流将增加，其他地方的交通将急剧下降。 这些将使生物反应失衡，治1疗质量将下降。

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