
日照微弧氧化生产线(图)-低电压微弧氧化技术-微弧氧化技术
由于微弧氧化技术具有上述优点和特点,因此在机械,微弧氧化技术,汽车,电子,航天航空及建筑民用等工业领域有着极其广泛的应用前景。主要可用于对耐磨、耐蚀、耐热冲击、高绝缘等性能有特殊要求的铝基零部件的表面强化处理;同时也可用于建筑和民用工业中对装饰性和耐磨耐蚀要求高的铝基材的表面处理;还可用于常规阳极氧化不能处理的特殊铝基合金材料的表面强化处理。例如,汽车等各车辆的铝基活塞,活塞座,低电压微弧氧化技术,汽缸及其他铝基零部件;机械、化工工业中的各种铝基模具,各种铝罐的内壁,飞机制造中的各种铝基零部件如货仓地板,滚棒,导轨等;以及民用工业中各种铝基五金产品,健身器材等。





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微弧氧化材料表面陶瓷化机理
微弧氧化是一种在高电压、大电流下对金属材料进行表面处理的技术。由于采用了较高的电压(大于250 V),在微弧氧化处理过程中,可在样品材料表面观察到光斑(弧光)现象。光斑十分细小,密度很大,且无固定位置。这种细小的光斑意味着在样品材料表面形成了大量的等离子体微区,在微区内瞬间温度可达2500℃以上,压力可达数百个大气压,为上面提到的一系列化学、物理反应的进行创造了条件。利用这一环境可在材料表面生成具有一定厚度、致密的陶瓷氧化层,可用来改善材料自身的防腐、耐磨和电绝缘等特性。
微弧氧化膜层生长时,首先在基体表面发生化学反应,生成一层阳极氧化膜。当增大反应电压时,膜层厚度会进一步增加,厚度会随之增加。但是当反应电压增加到一定程度时,膜层会由于不能承受该工作电压发生放电再击穿,产生等离子放电。反应的高温将使膜层发生熔融,基体元素由于处在富氧环境中,将形成氧化物。同时由于是在电解液中,微弧氧化技术原理,熔融物将瞬间冷凝,在基体表面生成一层陶瓷。陶瓷膜的生成,将导致工作电压进一步升高,膜层再次被击穿,膜层厚度进一步增加。周而复始,表面微弧氧化技术,膜层得以生长。
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