英飞思XRF镀层测厚仪优势

>微光斑X 射线聚焦光学器件

通过将高亮度一次 X 射线照射到0.02mm的区域，微区膜厚仪加工，实现高精度测量。

>硅漂移探测器 (SDD) 作为检测系统

高计数率硅漂移检测器可实现高精度测量。

>高分辨率样品观测系统

的点位测量功能有助于提高测量精度。

>全系列标配薄膜FP无标样分析法软件，微区膜厚仪供应商，可同时对多层镀层及全金镀层厚度和成分进行测量

配合用户友好的软件界面，可以轻松地进行日常测量。

测厚仪

材料的镀层厚度是一个重要的生产工艺参数，其选用的材质和镀层厚度直接影响了零件或产品的耐腐蚀性、装饰效果、导电性、产品的可靠性和使用寿命，因此，镀层厚度的控制在产品质量、过程控制、成本控制中都发挥着重要作用。英飞思开发的EDX8000B镀层测厚仪是专门针对于镀层材料成分分析和镀层厚度测定。其主要优点是准确，微区膜厚仪，快速，无损，操作简单，测量速度快。可同时分析多达五层材料厚度，并能对镀层的材料成分进行快速鉴定。

苏州英飞思科学仪器有限公司，英文名字：Efficiency Scientific Instrument Co.，Ltd.

公司logo和英文缩写为ESI。

英飞思ESI坐落于美丽而现代的苏州工业园。

XRF镀层测厚仪工作原理镀层测厚仪是将X射线照射在样品上，通过从样品上反射出来的第二次X射线的强度来测量镀层等金属薄膜的厚度，微区膜厚仪哪里有，因为没有接触到样品且照射在样品上的X射线能量很低，所以不会对样品造成损坏。同时，测量的也可以在10秒-30秒内完成。

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