真空镀膜的形式有： 1.物理沉积:电阻蒸发镀膜、电子束蒸发镀膜、磁控溅射镀膜，以上三种都是分子量级的均匀度。离子镀相对来讲颗粒比较大。 2.化学气象沉积：充入特种气体反应镀膜，注塑矿工头灯反光杯，也是分子量级的。 真空镀膜多数是功能性薄膜，也有部分是装饰用薄膜。

高粘性与低粘性

同款产品的粘性高低主要就在于配方上的区别，单要说不同厂家的产品粘性上有质的差距，除非是国外产品与国内的产品对比时才能明显的看出来，如果单独就从国内的产品来讲，矿工头灯反光杯，所使用的主体原料都是一样的，新能源车矿工头灯反光杯，差别不是很大，那么国内产品的粘性的好与坏就要看配方用料的纯度了。

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代l开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面（通常是非金属材料），属于物理气相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。

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