电离室的数目

脉冲的变化率取决于漂移速度。电子的漂移速度约比正离子大三个量级，这就决定了在t≤x0/v-时间内，脉冲前沿主要是电子脉冲的贡献。它构成脉冲的快成份，矩阵电离室公司，幅度与电离产生的地点有关。在x0/v-≤t -≤(d-x0)/v+时间内，矩阵电离室多少钱，主要是离子脉冲的贡献，这是脉冲的慢成分。但是输出的电压幅度只决定于原电离的总数目，与电离产生的地点无关。

电离室离子复合

在脉冲式辐射场中，Ks的推导建议使用双电压法。这里需要假定剂量仪读数（M）和所使用的偏压（V）之间存在线性关系。M1和M2分别是偏压为V1和V2的剂量仪读数。其中，V1是常用偏压，V2小于V1，矩阵电离室厂家，一般V1/v2≥3。此时，常压V1时的复合效应表达式为：

Ks=a0+a1（M1/M2）+a2（M1/M2）2注意：因为Ks与剂量率相关，故测定时，应使用剂量率。

电离室分类

电离室主要有两种类型：一种是记录单个辐射粒子的脉冲电离室，陕西矩阵电离室，主要用于测量重带电粒子的能量和强度，其按照输出回路的参量，脉冲电离室又可分为离子脉冲电离室和电子脉冲电离室。另一种是记录大量辐射粒子平均效应的电流电离室和累积效应的累计电离室，主要用于X、γ、中子的强度或通量、剂量或剂量率。它是剂量监测和反应堆控制的主要传感元件。

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