人类社会的存在，纯金靶材，科学技术的进步和发展，已成为21世纪首要的战略储备物资，且与各国的政治经济和社会发展有着息息相关的紧密联系，在已知的传统产业和应用领域中，高纯材料、合金、各种深加工的制品（半成品）及化学制品，已被广泛应用到冶金钢铁，石油化工，纯金靶材厂家，有机化工，化工，电子电器，汽车制造，光学玻璃，玻璃纤维。

 溅射靶材ITO靶材的生产工艺 ITO靶材的生产工艺可以分为3种：热等静压法(HIP)、溅射靶材热压法(HP)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下：

 热等静压法：ITO靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体，在800℃～1400℃及1000kgf/cm 2～2000kgf/cm 2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好，但设备投入高，纯金靶材哪家好，生产成本高，产品的缺氧率高。

背靶的选择

对材质的要求：一般选用无氧铜和钼靶，厚度在3mm左右

导电性好：常用无氧铜，无氧铜的导热性比紫铜好；

强度足够：太薄，纯金靶材加工，易变形，不易真空密封。

结构要求：空心或者实心结构；

厚度适中：3mm左右，太厚，消耗部分磁强；太薄，容易变形。

铟焊绑定的流程

1.绑定前的靶材和背板表面预处理

2.将靶材和背板放置在钎焊台上，升温到绑定温度

3.做靶材和背板金属化

4.粘接靶材和背板

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