真空镀膜的原理是基于物理气相沉积（Physical Vapor Deition，简称PVD）技术，离子束溅射等将材料加热至熔点或升华点以上，使其形成蒸汽流并沉积在基底表面，终形成薄膜。

真空镀膜的主要优点包括：附着力强：由于是在真空环境下沉积薄膜，因此薄膜与基底之间的附着力更强，不易脱落。

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上游的金属提纯主要从自然界重点金属矿石进行提纯，一般的金属能达到 99.8%的纯度，LED灯反光杯加工，溅射靶材需要达到 99.999%的纯度。

靶材制造环节首先需要根据下游应用领域的性能需求进行工艺设计，然后进行反复的塑性变形、热处理来控制晶粒、晶向等关键指标，再经过水切割、机械加工、金属化、超生测试、超声清洗等工序。

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