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传统的阴极射线管显示器，后面总是拖着一个笨重的射线管。TFT液晶屏突破了这一限制，给人一种全新的感觉。传统显示屏是通过电子发射电子束到屏幕，因而显像管的管颈不能做得很短，当屏幕增加时也必然增大整个显示器的体积。而TFT液晶屏通过显示屏上的电极控制液晶分子状态来达到显示目的，即使屏幕加大，它的体积也不会成正比的增加，而且在重量上比相同显示面积的传统显示器要轻得多。
薄膜晶体管(就是我们经常所说的TFT)：经常说的TFT-LCD，其实际上指的就是这个薄膜晶体管，它的作用类似于开关，TFT能够控制IC控制电路上的信号电压，并将其输送到液晶分子中，决定液晶分子偏转的角度大小，因此其是非常重要的一个部件。
液晶分子层：其是改变光线偏光状态重要的元素，广东显示屏控制系统，通过电力和弹性力共同决定其排列和偏光状态。
彩色滤光片：通过液晶分子偏转的光线只能显示不同的灰阶，但是不能提供红、绿、蓝(RGB)三原色，而彩色滤光片则由RGB三种过滤片组成，通过三者混喝调节各个颜色与亮度。液晶面板中每一个像素由红、绿、蓝3个点构成，每种颜色的点各自拥有不同的灰阶变化。
框胶;其就是让液晶面板中上下两层玻璃基板能够牢固的黏在一起，并将整个内部系统与外接“隔绝”，防止灰尘进入影响色彩效果。
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背光照明的作用首先体现在亮度补偿。液晶分子对光线的调节类似光阀，通过控光线的阻挡和通过比例形成灰阶与色彩变化。没有背光，液晶屏只能呈现微弱的自然反射光，这会严重限制在室内或弱光环境下的可视性。背光块能够稳定提供光源使显示画面具有足够的亮度，智能显示屏控制系统升级，满足长时间使用的视觉需求。
影响偏光片外观性能的主要因素也是多方面的。主要有：偏光片生产的环境净化条件、偏光片生产的材料选择、偏光片生产的设备条件、偏光片生产的工艺流程和工艺配方、偏光片包装、储存、运输条件，以及偏光片在客户使用时的存放环境和加工方法。总之，偏光片是一种非常“娇气”的产品，智能显示屏控制系统电话，必须仔细地加以保管和使用，否则就很容易造成表面凹点、黑点和翘曲等表面不良的出现。
其次，背光照明有助于提升色彩还原度。LCD液晶屏的彩色显示依赖RGB滤光片实现，不同颜像素透过的光强直接影响色彩饱和度和准确度。如果光源亮度不足或色温不稳定，屏幕显示会偏色或暗淡。现代背光系统多采用LED光源，具备较高的色温稳定性与光谱均衡性，可改善色彩一致性，使画面更接近真实场景。
从结构设计上看，LCD液晶屏的背光系统通常由光源、导光板、扩散片、增光膜等组成。光源提供初始光能，导光板将光线均匀分布到屏幕各区域，扩散片去除亮斑，增光膜提升光利用效率。这一组合不仅保证了亮度均匀性，还避免了局部亮度过高引发的视觉疲劳。背光照明系统的质量直接影响屏幕显示的均衡性与稳定性
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STN LCD比TN LCD的视角更宽，而且除笔段型和字符型的显示以外，也可以做点阵型。STN LCD搭配半透或者反射的偏光片时，可以不加背光直接显示，降低成品的功耗。而且LCD还可以嵌入简单的触控功能，将显示与触控功能二合为一，是物理按键面板的上佳替代方案。
现已实现产业化的tft类型包括：非晶硅tft（a-si tft）、多晶硅tft（p-si tft）、单晶硅tft（c-si tft）几种。目前使用Z多的仍是a-si tft。a-si tft的制造工艺是先在硼硅玻璃基板上溅射栅极材料膜，经掩膜曝光、显影、干法蚀刻后形成栅极布线图案。
tft阵列工艺是tft-lcd制造工艺的关键，也是设备投资Z多的部分。整个工艺要求在很高的净化条件（例如10级）下进行。
一般掩膜曝光用步进曝光机。第二步是用pecvd法进行连续成膜，形成sinx膜、非掺杂a-si膜，掺磷n+a-si膜。然后再进行掩膜曝光及干法蚀刻形成tft部分的a-si图案。第三步是用溅射成膜法形成透明电极（ito膜），再经掩膜曝光及湿法蚀刻形成显示电极图案。第四步栅部绝缘膜的接触孔图案形成则是使用掩膜曝光及干法蚀刻法。第五步是将al等进行溅射成膜，用掩膜曝光、蚀刻形成tft的源极、漏极以及信号线图案。Z后用pecvd法形成保护绝缘膜，再用掩膜曝光及干法蚀刻进行绝缘膜的蚀刻成形（该保护膜用于对栅极以及信号线电部和显示电极的保护）。至此，整个工艺流程完成。
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