微弧氧化技术-日照微弧氧化工艺-手机壳微弧氧化技术

微弧氧化的起源

微弧氧化(MAO)是一种在轻金属表面原位生长陶瓷氧化膜的新技术。美国五十年代在某些兵工厂开始研究阳极火花沉积,前苏联从七十年代中期开始独立研究微弧氧化且具较高水平,八十年代中、后期以来微弧氧化研究已成为国际研究热点并开始应用,九十年代初国内开始起步。微弧氧化在航空、航天、机械、电子、装饰等领域有广泛应用前景。








微弧氧化技术的优势

1.微弧氧化工艺稳定且可靠,PEO技术微弧氧化,设备简单,镁合金微弧氧化技术,反应在常温下进行,操作方便,易于掌握。

2.微弧氧化膜有良好的耐磨损性能。

3.微弧氧化膜有良好的耐热性及抗腐蚀性。这从根本上克服了铝、镁、钛合金材料在应用中的缺点,手机壳微弧氧化技术,因此该技术有广阔的应用前景。

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微弧氧化技术是一种低碳环保的兴新表面工艺处理技术。适用于对铝、镁、钛等轻金属以及铝合金的表面处理。它能合理地在PCB原材料表面上原体生长发育一层匀称的陶瓷膜。因为其加工工艺特性显著,表面处理的性能优点凸出,自该技术被创造发明至今,深受大家的亲睐。微弧氧化解决是一种在稀有金属表面原点生长发育化合物瓷器的新技术应用。选用微弧氧化技术对镁以及合金制品开展表面瓷器化解决,具备加工工艺全过程简易,微弧氧化技术,占地小,处理工艺能力强,生产制造速度快,适用大批量工业生产等优势。



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